一、 兩相機絲印機對位模型原理 絲印項目,設(shè)定對位目標(biāo)位置后,每次都與目標(biāo)位置比較,計算出位置偏差,使產(chǎn)品位置與目標(biāo)基準(zhǔn)位置中心角度重合。 雙相機絲印機對位模型,如下圖: 該模型下常見的Mark標(biāo)志方法如下: 雙mark自對位模型 說明: 雙相機模型兩個相機分別拍攝產(chǎn)品的兩個Mark點。平臺端的產(chǎn)品來料位置不固定,找出兩個Mark點后。根據(jù)糾偏算法找到偏移量,根據(jù)偏移量將平臺端的產(chǎn)品對位到基準(zhǔn)位置上(絲印基準(zhǔn)位置)。 ...
2025-11-18 17:38:31